(11)	022598 (13) B1	Разделы: A B C D E F G H
(21)	201270487
(22)	2010.09.30
(51)	C03C 17/00 (2006.01) C03C 17/245 (2006.01) C23C 14/58 (2006.01)
(31)	0956866
(32)	2009.10.01
(33)	FR
(43)	2012.08.30
(86)	PCT/FR2010/052073
(87)	WO 2011/039488 2011.04.07
(71)	(73) СЭН-ГОБЭН ГЛАСС ФРАНС (FR)
(72)	Харченко Андрий, Дюрандо Анн, Надо Николя (FR)
(74)	Медведев В.Н. (RU)
(54)	СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ТОНКОГО СЛОЯ НА ПОДЛОЖКУ

(57) 1. Способ покрытия по меньшей мере части поверхности подложки по меньшей мере одним слоем из оксида металла М, содержащий следующие операции:

наносят катодным напылением по меньшей мере на часть поверхности подложки по меньшей мере один материал, выбранный из металла М, нитрида металла М или карбида металла М, для получения на поверхности подложки промежуточного слоя, имеющего физическую толщину меньше или равную 20 нм,

осуществляют термическую обработку промежуточного слоя с использованием лазерного излучения, имеющего длину волны от 500 до 2000 нм и поверхностную мощность на уровне промежуточного слоя более или равную 20 кВт/см², в процессе которой по меньшей мере часть поверхности промежуточного слоя находится в прямом контакте с окисляющей атмосферой, причем каждая обрабатываемая точка промежуточного слоя подвергается окислительной термической обработке в течение периода, меньшего или равного 1 с, для получения оксидной пленки, содержащей металл М, по меньшей мере на части поверхности подложки, при этом указанный слой из оксида является одним слоем, нанесенным на подложку, или является последним слоем нанесенного на подложку пакета слоев.

2. Способ по п.1, в котором подложка представляет собой листовой материал из стекла.

3. Способ по любому из пп.1 или 2, в котором металл М выбирают из титана, олова, циркония, цинка, вольфрама, тантала, ниобия, молибдена, хрома, никеля, кремния или алюминия.

4. Способ по любому из пп.1-3, в котором промежуточный слой выполняют из титана, при этом слой оксида, полученный после термической обработки, является фотокаталитическим слоем оксида титана.

5. Способ по любому из пп.1-4, в котором физическая толщина одного или каждого слоя оксида металла М меньше или равна 15 нм.

6. Способ по любому из пп.1-5, в котором температура подложки во время термической обработки не превышает 100°C, в частности 50°C.

7. Способ по любому из пп.1-6, в котором лазерное излучение имеет длину волны от 530 до 1200 нм.

8. Способ по п.6 или 7, в котором поверхностная мощность лазерного излучения на уровне промежуточного слоя больше или равна 30 кВт/см².

9. Способ по любому из пп.6-8, в котором лазерное излучение формируется по меньшей мере из одного лазерного пучка, образующего линию, которая облучает одновременно всю или часть ширины подложки.

10. Способ по п.9, в котором используют относительное перемещение между подложкой, покрытой слоем, и лазерной линией со скоростью больше или равной 4 м/мин, в частности 6 м/мин.

11. Способ по любому из пп.4, 7-10, в котором на поверхность подложки наносят промежуточный слой металлического титана, а на другую поверхность указанной подложки наносят низкоэмиссионный пакет слоев, содержащий по меньшей мере один слой серебра, затем обрабатывают указанный промежуточный слой лазерным излучением так, что эмиссионная способность или удельное сопротивление низкоэмиссионного пакета слоев уменьшается по меньшей мере на 3%.

12. Способ по любому из пп.1-8, в котором только часть поверхности промежуточного слоя подвергают термической обработке для получения рисунков в эстетических или функциональных целях.

13. Подложка, изготовленная способом нанесения покрытия по меньшей мере на часть поверхности подложки по п.12, часть поверхности которой покрыта слоем оксида металла М, физическая толщина которого меньше или равна 20 нм, а другая часть поверхности которой покрыта слоем материала, выбранного из указанного металла М, нитрида указанного металла М или карбида указанного металла М.