(21)	201401183 (13) A1	Разделы: A B C D E F G H
(22)	2014.10.21
(51)	C23C 14/35 (2006.01) C23C 14/06 (2006.01) C23C 4/10 (2006.01) C23C 24/04 (2006.01)
(31)	2013158730
(32)	2013.12.27
(33)	RU
(96)	2014000120 (RU) 2014.10.21
(71)	ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ АВТОНОМНОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ "САМАРСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ АЭРОКОСМИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ ИМЕНИ АКАДЕМИКА С.П. КОРОЛЕВА (НАЦИОНАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ) (СГАУ) (RU)
(72)	Богданович Валерий Иосифович, Барвинок Виталий Алексеевич, Асмолов Антон Николаевич, Докукина Ирина Александровна, Еськина Елена Владимировна, Буяльский Владислав Игоревич (RU)
(54)	СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ КАТОДНОЙ МИШЕНИ ДЛЯ РАСПЫЛИВАНИЯ КЕРАМИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВ

(57) Изобретение относится к технологии изготовления катодной мишени для распыления керамического материала, применяемой в получении керамических покрытий в вакууме магнетронным методом на изделиях машиностроения. Сущность изобретения заключается в том, что в качестве основания используют металлическую катодную мишень, отработавшую свой срок применения по назначению на этом магнетронном оборудовании и имеющую минимальное значение толщины материала основания в области ее максимального распыления не менее 2 мм. Кроме того, покрытие из распыляемого керамического материала наносят на поверхность металлического основания только по месту распыления материала основания с неравномерной толщиной покрытия, превышающего в 1,5-2,5 раза значение глубины области распыления материала основания при его первоначальном применении на данном магнетронном оборудовании. Распыляемый керамический материал одного состава наносится на правую, а другого состава - на левую часть металлического основания. Перед нанесением покрытия из керамического порошкового материала под ним на металлическое основание наносят, как минимум, один слой согласующего металлического покрытия с толщиной каждого слоя в пределах 0,05-0,10 мм потоком низкотемпературной плазмы путем подачи в поток металлических порошковых частиц. После применения катодной мишени по назначению и распыления керамического покрытия эта катодная мишень повторно используется в качестве металлического основания. Такое техническое решение позволяет повысить коэффициент использования керамического материала и увеличить ресурс применения мишени до ее замены в катодном узле, исключить отслаивание и растрескивание керамического слоя в процессе нанесения керамического покрытия на изделие, снизить стоимость и трудоемкость изготовления керамических материалов.