|
| |
(21) | 201700215 (13) A1 |
    Разделы: A B C D E F G H  |
(22) | 2015.01.30 |
(51) | A61L 27/00 (2006.01)
A61L 27/04 (2006.01)
A61L 27/32 (2006.01)
A61L 27/54 (2006.01) |
(31) | 2014142170; 2014142171 |
(32) | 2014.10.21 |
(33) | RU |
(86) | PCT/RU2015/000055 |
(87) | WO 2016/064296 2016.04.28 |
(71) | ФЕДЕРАЛЬНОЕ ГОСУДАРСТВЕННОЕ АВТОНОМНОЕ ОБРАЗОВАТЕЛЬНОЕ УЧРЕЖДЕНИЕ ВЫСШЕГО ОБРАЗОВАНИЯ "НАЦИОНАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ "МИСиС" (RU) |
(72) | Левашов Евгений Александрович, Кудряшов Александр Евгеньевич, Замулаева Евгения Игоревна, Штанский Дмитрий Владимирович, Погожев Юрий Сергеевич, Потанин Артем Юрьевич, Швындина Наталия Владимировна (RU) |
(74) | Протасенко М.Н. (RU) |
(54) | СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ БИОАКТИВНОГО ПОКРЫТИЯ С АНТИБАКТЕРИАЛЬНЫМ ЭФФЕКТОМ |
(57) Изобретение относится к поверхностной обработке металлов и их сплавов медицинского назначения и может быть использовано при изготовлении имплантатов, предназначенных для замены поврежденных участков костной ткани, к которым относятся, в частности, ортопедические и дентальные имплантаты, имплантаты для челюстно-лицевой хирургии и хирургии позвоночника, искусственные сочленения, фиксаторы и др. Технический результат, достигаемый в предложенном способе, заключается в обеспечении получения на имплантатах, изготовленных из специальных сплавов медицинского назначения, сплошных биосовместимых, биоактивных покрытий с антибактериальным эффектом с высокой величиной адгезии (более 100 Н), высокой износостойкостью и с заданным рельефом. Технический результат достигается следующим образом. Способ получения биоактивного покрытия с антибактериальным эффектом включает электроискровую обработку поверхности подложки обрабатывающим электродом, следующего состава, вес.%: биоактивная добавка - 5-40, антибактериальная металлическая добавка - 0,5-5, биосовместимая добавка в виде металла или тугоплавкого соединения - остальное. Электроискровую обработку проводят при следующих режимах: 100≤Ni≤10000; 10≤f≤100000; 0,01≤v≤0,6, где Ni - мощность единичного импульсного разряда, Вт; f - частота импульсных разрядов, Гц; v - линейная скорость перемещения обрабатывающего электрода, м/мин.
|
