| |
(21) | 201400949 (13) A1 |
Разделы: A B C D E F G H |
(22) | 2014.07.30 |
(51) | H01L 29/872 (2006.01) H01L 29/47 (2006.01) |
(96) | 2014/EA/0058 (BY) 2014.07.30 |
(71) | ОТКРЫТОЕ АКЦИОНЕРНОЕ ОБЩЕСТВО "ИНТЕГРАЛ"-УПРАВЛЯЮЩАЯ КОМПАНИЯ ХОЛДИНГА "ИНТЕГРАЛ" (BY) |
(72) | Турцевич Аркадий Степанович, Соловьев Ярослав Александрович, Сарычев Олег Эрнстович (BY) |
(54) | ДИОД ШОТТКИ |
(57) Изобретение относится к электронной технике, а более конкретно - к конструкции кристалла мощных диодов Шоттки, и может быть использовано, например, в качестве выпрямителей в изделиях силовой электроники. В основу настоящего изобретения положена задача снижения обратного тока диода Шоттки и уменьшения удельного расхода рения. Сущность изобретения заключается в том, что в диоде Шоттки, содержащем сильнолегированную кремниевую подложку n-типа проводимости со сформированным окисленным слаболегированным эпитаксиальным слоем того же типа проводимости и охранным кольцом р-типа проводимости, образующим р-n переход, вскрытое в окисле кремния окно, сформированное в окне углубление величиной 0,05-0,5 мкм, барьерный слой электрода Шоттки, барьерный слой электрода Шоттки, контактный электрод; барьерный слой электрода Шоттки выполняют двухслойным: нижний слой формируют из рения толщиной от 5,0 нм до 15,0 нм, а верхний слой формируют из молибдена толщиной от 100 до 300 нм.
|