|
| |
(21) | 201590775 (13) A1 |
    Разделы: A B C D E F G H  |
(22) | 2013.12.18 |
(51) | H01J 37/32 (2006.01) |
(31) | 12199066.7 |
(32) | 2012.12.21 |
(33) | EP |
(86) | PCT/JP2013/007432 |
(87) | WO 2014/097620 2014.06.26 |
(71) | АСАХИ ГЛАСС КОМПАНИ ЛИМИТЕД (JP) |
(72) | Тиксон М. Эрик, Мишель М. Эрик, Леклерк М. Жозеф (BE) |
(74) | Квашнин В.П. (RU) |
(54) | СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ЗАЖИГАНИЯ ДЛЯ ПАР ЭЛЕКТРОДОВ ДБР |
(57) Способ обработки поверхности посредством диэлектрического барьерного разряда (ДБР), включающий следующие операции: подачу или прохождение подложки в реакционную камеру (2), где расположены по меньшей мере два электрода (10, 12) и по меньшей мере один противоэлектрод (13, 14, 15), при этом между указанными по меньшей мере двумя электродами (10, 12) и указанным по меньшей мере одним противоэлектродом (13, 14, 15) помещен диэлектрический барьер (16); подключение индуктивности (L1, L2) последовательно с каждым из указанных электродов (10, 12), при этом указанные индуктивности (L1, L2) намотаны на общий магнитный сердечник таким образом, чтобы результирующий магнитный поток этих двух индуктивностей являлся нулевым, когда в двух электродах (10, 12) циркулируют одинаковые токи; генерирование высокочастотного электрического напряжения такой величины, чтобы оно вызывало генерирование плазмы между по меньшей мере двумя электродами (10, 12) и по меньшей мере одним противоэлектродом (13, 14, 15); подачу в реакционную камеру смеси, состав которой таков, что при контакте с плазмой она разрушается и образует вещества, способные реагировать с поверхностью подложки (4).
|
