(11)	017637 (13) B1	Разделы: A B C D E F G H
(21)	200870317
(22)	2007.03.06
(51)	B32B 17/06 (2006.01)
(31)	0650770
(32)	2006.03.06
(33)	FR
(43)	2009.02.27
(86)	PCT/FR2007/050881
(87)	WO 2007/101963 2007.09.13
(71)	(73) СЭН-ГОБЭН ГЛАСС ФРАНС (FR)
(72)	Ретлер Паскаль, Надо Николя, Мартен Эстель, Лабрус Лоран (FR)
(74)	Медведев В.Н. (RU)
(54)	ОСТЕКЛЕНИЕ

(57) 1. Остекление, включающее в себя подложку (10), снабженную пакетом тонких слоев, содержащим чередующуюся последовательность "n" функциональных металлических слоев (40, 80), обладающих свойствами отражения инфракрасного и/или солнечного излучения и выполненных на основе серебра или содержащего серебро металлического сплава, и "(n+1)" покрытий (20, 60, 100), где n - целое число ≥2, причем упомянутые покрытия состоят из множества диэлектрических слоев (24, 64, 104), так что каждый функциональный слой (40, 80) расположен между двумя покрытиями (20, 60, 100), причем каждый по меньшей мере из двух функциональных слоев (40, 80) нанесен на смачивающий слой (30, 70), соответственно нанесенный, в свою очередь, непосредственно на нижележащее покрытие (20, 60), отличающееся тем, что каждое из двух нижележащих покрытий (20, 60) содержит по меньшей мере один диэлектрический слой (24, 64) и по меньшей мере один некристаллический сглаживающий слой (26, 66) из материала, отличающегося от материала упомянутого диэлектрического слоя внутри каждого покрытия, причем упомянутый сглаживающий слой (26, 66) находится в контакте с упомянутым вышележащим смачивающим слоем (30, 70), и тем, что эти два нижележащих покрытия (20, 60) имеют разные толщины, причем толщина сглаживающего слоя (26, 66) нижележащего покрытия (20, 60), имеющего меньшую общую толщину, чем толщина другого нижележащего покрытия (60, 20), меньше или равна толщине сглаживающего слоя (66, 26) этого другого нижележащего покрытия (60, 20), и тем, что по меньшей мере один сглаживающий слой (26, 66) или все сглаживающие слои (26, 66) представляет (или представляют) собой слой смешанного оксида на основе цинка и олова или слой смешанного оксида олова и индия (ITO), нанесенный в холодном состоянии.

2. Остекление по п.1, отличающееся тем, что пакет слоев содержит два функциональных слоя, чередующихся с тремя покрытиями.

3. Остекление по п.1, отличающееся тем, что пакет слоев содержит три функциональных слоя, чередующихся с четырьмя покрытиями.

4. Остекление по п.1, отличающееся тем, что пакет слоев содержит четыре функциональных слоя, чередующихся с пятью покрытиями.

5. Остекление по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что нижележащее покрытие, наиболее близкое к подложке, представляет собой наименее толстое покрытие из упомянутых двух нижележащих покрытий (20, 60).

6. Остекление по любому из пп.3-5, отличающееся тем, что нижележащее покрытие, наиболее удаленное от подложки, представляет собой наименее толстое покрытие из двух смежных нижележащих покрытий.

7. Остекление по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что по меньшей мере один сглаживающий слой (26, 66) или все сглаживающие слои (26, 66) представляет (или представляют) собой слой смешанного оксида с нестехиометрическим количеством кислорода.

8. Остекление по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что упомянутый по меньшей мере один сглаживающий слой (26, 66) имеет геометрическую толщину между 0,1 и 30 нм, а предпочтительно между 0,2 и 10 нм.

9. Остекление по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что по меньшей мере один, а предпочтительно каждый, функциональный слой (40, 80) расположен непосредственно на по меньшей мере одном нижележащем блокирующем покрытии (35, 75) и/или непосредственно под по меньшей мере одним вышележащим блокирующим покрытием (45, 85).

10. Остекление по предыдущему пункту, отличающееся тем, что по меньшей мере одно блокирующее покрытие (35, 45, 75, 85) выполнено на основе Ni или Ti или выполнено на основе сплава на основе Ni, в частности, выполнено на основе сплава NiCr.

11. Остекление по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что по меньшей мере один, а предпочтительно каждый, смачивающий слой (30, 70), лежащий под функциональным слоем (40, 80), выполнен на основе оксида цинка.

12. Остекление по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что по меньшей мере один, а предпочтительно каждый, диэлектрический слой (24, 64), прилегающий к сглаживающему слою (26, 66) внутри упомянутых нижележащих покрытий (20, 60), выполнен на основе нитрида, в частности нитрида кремния и/или нитрида алюминия.

13. Остекление по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что подложка представляет собой прозрачную стеклянную подложку.

14. Остекление по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что оно содержит по меньшей мере одну дополнительную подложку, объединенную с упомянутой подложкой.

15. Остекление по предыдущему пункту, отличающееся тем, что оно смонтировано как монолитное или как многослойное остекление типа однокамерного стеклопакета или ламинированного остекления, при этом, по меньшей мере, подложка-носитель пакета слоев изогнута или закалена.

16. Остекление по п.14 или 15, отличающееся тем, что оно снабжено средствами, позволяющими запитывать упомянутый пакет слоев электроэнергией.

17. Способ изготовления остекления по любому из пп.1-13, отличающийся тем, что наносят пакет тонких слоев на подложку по вакуумной технологии типа катодного распыления, необязательно магнетронного распыления, и тем, что затем осуществляют термическую обработку типа изгибания, закалки или отжига упомянутой подложки без ухудшения ее оптического и/или механического качества.