(21)	201890117 (13) A1	Разделы: A B C D E F G H
(22)	2016.07.08
(51)	C03C 17/23 (2006.01) C03C 17/245 (2006.01) C03C 21/00 (2006.01)
(31)	15177057.5
(32)	2015.07.16
(33)	EP
(86)	PCT/EP2016/066298
(87)	WO 2017/009235 2017.01.19
(71)	АГК ГЛАСС ЮРОП (BE)
(72)	Шейверт Флорэн, Дюсулье Лоран, Депо Жан-Мишель (BE)
(74)	Квашнин В.П. (RU)
(54)	СТЕКЛЯННАЯ ПОДЛОЖКА ДЛЯ ХИМИЧЕСКОГО УПРОЧНЕНИЯ И СПОСОБ ХИМИЧЕСКОГО УПРОЧНЕНИЯ С КОНТРОЛИРУЕМОЙ КРИВИЗНОЙ

(57) Настоящее изобретение относится к стеклянной подложке для химического упрочнения, где поверхность покрыта посредством магнетронного распыления временной тонкой пленкой, которая снижает степень ионного обмена при химическом упрочнении, и где временная тонкая пленка может быть удалена после химического упрочнения посредством обработки травильным раствором. Другие варианты осуществления относятся к способу получения химически упрочненной стеклянной подложки с контролируемой кривизной, включающему обеспечение подложки с противоположными поверхностями, которые устойчивы к приведенному травильному раствору, образование временной тонкой пленки по меньшей мере на части поверхности стеклянной подложки, химическое упрочнение стеклянной подложки, содержащей временную тонкую пленку, и удаление временной тонкой пленки после указанного химического упрочнения указанным травильным раствором. Толщина временной тонкой пленки выбрана таким образом, что контролируемая кривизна получена при химическом упрочнении.