(57) 1. Способ получения покрытия на основе хрома на объекте путем электролитического осаждения из ванны, содержащей трехвалентный хром, в котором покрытие на основе хрома содержит хром (Cr), углерод (С) и железо (Fe), в котором С по меньшей мере частично находится в форме по меньшей мере одного карбидного соединения хрома, и в котором твердость покрытия, измеренная согласно стандарту SFS-EN ISO 4516, составляет по меньшей мере 1500 HV по шкале микротвердости по Виккерсу, отличающийся тем, что способ включает стадии:
a) осаждения на объект слоя Cr из ванны, содержащей трехвалентный Cr, при этом ванна содержит по меньшей мере один источник трехвалентного Cr, по меньшей мере 20 мг×л^-1 катионов Ni, по меньшей мере один источник С и по меньшей мере один источник Fe, так что Ni, С и Fe вводят в состав слоя Cr, и
b) проведения по меньшей мере одной тепловой обработки объекта с нанесенным покрытием при температуре 400-1200°С, или при температуре 400-650°С, или при температуре 650-820°С, или при температуре 820-1200°С для модифицирования механических и физических свойств покрытия.
2. Способ по п.1, в котором по меньшей мере одним источником Ni является NiCl₂ или металлический Ni.
3. Способ по любому из пп.1 и 2, в котором стадию (b) выполняют в окружающей атмосфере.
4. Способ по любому из пп.1-3, в котором плотность тока в течение нанесения покрытия составляет 10-50 или 15 А×дм^-2.
5. Способ по любому из пп.1-4, в котором по меньшей мере одна тепловая обработка на стадии (b) представляет собой индукционный нагрев, а после окончания нагрева объект охлаждают охлаждающей жидкостью в течение 0,1-60 с, или в течение 0,5-10 с, или в течение 0,8-1,5 с.
6. Способ по любому из пп.1-5, где способ включает дополнительную стадию (с) осаждения верхнего слоя после стадии (b) путем осаждения тонких пленок, такого как физическое осаждение из паровой фазы (ФОПФ), химическое осаждение из паровой фазы (ХОПФ), осаждение атомных слоев (ОАС), или нанесение покрытия электролитическим методом, или нанесение покрытия методом химического восстановления; и/или где способ включает дополнительную стадию (с) осаждения верхнего слоя перед стадией (b) путем осаждения тонких пленок, такого как физическое осаждение из паровой фазы (ФОПФ), химическое осаждение из паровой фазы (ХОПФ), осаждение атомных слоев (ОАС), или нанесение покрытия электролитическим методом, или нанесение покрытия методом химического восстановления.
7. Способ по любому из пп.1-6, в котором стадии (а) и (b) повторяют по меньшей мере один раз перед стадией (с) и/или в котором стадии (а), (b) и (с) повторяют по меньшей мере один раз.
8. Способ по любому из пп.1-7, в котором объект, на который наносят покрытие, является металлическим, и способ включает дополнительную стадию (i) науглероживания объекта перед стадией (а); и/или в котором на объект наносят слой Ni-P перед стадией (а).
9. Способ по любому из пп.1-8, в котором объект, на который наносят покрытие, является металлическим, и закалку металла объекта выполняют одновременно с тепловой обработкой объекта с нанесенным покрытием.

---