(57) 1. Способ генерации и стабилизации плазмы конфигурации с обращенным полем (FRC), содержащий этап
формирования плазмы FRC, расположенной вдоль продольной оси камеры (100) удержания вблизи средней плоскости камеры (100) удержания посредством формирования магнитного поля FRC вокруг вращающейся плазмы в камере (100) удержания, и
отличающийся тем, что плазму FRC стабилизируют в радиальном направлении, перпендикулярном продольной оси, с расположением плазмы FRC осесимметрично относительно продольной оси посредством настройки прикладываемого магнитного поля для индуцирования радиальной стабильности и осевой нестабильности в плазме FRC; и плазму FRC стабилизируют в осевом направлении вдоль продольной оси посредством создания первого и второго радиальных магнитных полей, причем первое и второе радиальные магнитные поля взаимодействуют с FRC для осевого перемещения плазмы FRC для расположения плазмы FRC осесимметрично относительно средней плоскости.
2. Способ по п.1, дополнительно содержащий этап генерации прикладываемого магнитного поля в пределах камеры (100) с помощью катушек (412, 414) квазипостоянного тока, простирающихся вокруг камеры (100).
3. Способ по п.1 или 2, причем этап стабилизации плазмы FRC включает в себя мониторинг положения плазмы.
4. Способ по п.3, причем этап мониторинга положения плазмы включает в себя мониторинг магнитных измерений, связанных с плазмой FRC.
5. Способ по п.3 или 4, причем первое и второе радиальные магнитные поля генерируют благодаря токам, индуцированным в противоположных направлениях в первой и второй радиальных катушках (530, 531), расположенных вокруг камеры удержания, причем способ дополнительно содержит этап измерения тока в первой и второй радиальных катушках (530, 531).
6. Способ по п.5, дополнительно содержащий этап мониторинга скорости плазмы FRC.
7. Способ по любому из пп.1-6, дополнительно содержащий поддержание FRC на или примерно на постоянном значении без спада путем инжекции пучков быстрых нейтральных атомов из инжекторов (600, 615) пучков нейтральных атомов в плазму FRC под углом к средней плоскости камеры (100) удержания и инжекции плазмы компактного тороида в FRC.
8. Способ по любому из пп.1-7, причем этап формирования плазмы FRC включает в себя формирование формирующей плазмы FRC в формирующей секции (200), связанной с торцом камеры (100) удержания, и ускорение формирующей плазмы FRC к средней плоскости камеры (100) для формирования плазмы FRC.
9. Способ по п.8, причем этап формирования плазмы FRC включает в себя одно из следующего: формирование формирующей плазмы FRC во время ускорения формирующей плазмы FRC к средней плоскости камеры (100) или формирование формирующей плазмы FRC и последующее ускорение формирующей плазмы FRC к средней плоскости камеры (100).
10. Способ по п.8, дополнительно содержащий этап направления поверхностей (452, 455) магнитного потока FRC в диверторы (300, 302), связанные с торцами первой и второй формирующих секций (200).
11. Способ по любому из пп.1-10, дополнительно содержащий этап кондиционирования внутренних поверхностей камеры (100), формирующих секций (200) и диверторов (300, 302) с помощью геттерирующей системы (800).
12. Способ по п.11, причем геттерирующая система (800) включает в себя одну из системы осаждения титана (810) и системы осаждения лития (820), или дополнительно содержащий этап осевой инжекции плазмы в FRC из аксиально установленных плазменных пушек (350).
13. Способ по любому из пп.1-12, дополнительно содержащий этап управления профилем радиального электрического поля в граничном слое (456) FRC.
14. Система для генерации и стабилизации плазмы конфигурации с обращенным полем (FRC), выполненная с возможностью осуществления способа по любому из пп.1-13, содержащая
камеру (100) удержания,
первую и вторую диаметрально противоположные формирующие FRC секции (200), связанные с камерой (100) удержания, причем формирующая секция (200) содержит модульные формирующие системы для генерации FRC и поступательного перемещения FRC к средней плоскости камеры удержания,
первый и второй диверторы (300, 302), связанные с первой и второй формирующими секциями (200),
первую и вторую осевые плазменные пушки (350), функционально связанные с первым и вторым диверторами (300, 302), первой и второй формирующими секциями (200) и камерой (100) удержания,
множество инжекторов (600, 615) пучков нейтральных атомов, связанных с камерой (100) удержания и ориентированных для инжекции пучков нейтральных атомов к средней плоскости камеры (100) удержания под углом, отклоненным от перпендикуляра к продольной оси камеры удержания,
магнитную систему (400), содержащую множество катушек (412, 414) квазипостоянного тока, расположенных вокруг камеры (100) удержания, первой и второй формирующих секций (200) и первого и второго диверторов (300, 302), первый и второй наборы зеркальных катушек (420, 430) квазипостоянного тока, расположенных между камерой (100) удержания и первой и второй формирующими секциями (200), и первую и вторую зеркальные пробки (440), расположенные между первой и второй формирующими секциями (200) и первым и вторым диверторами (300, 302),
геттерирующую систему (800), связанную с камерой (100) удержания и первым и вторым диверторами (300, 302),
первый и второй наборы катушек радиального магнитного поля, выполненных с возможностью генерации первого и второго радиальных магнитных полей в пределах камеры (100), и
систему (224) управления, функционально связанную с катушками (412, 414) квазипостоянного тока и первым и вторым наборами катушек радиального магнитного поля, причем система (224) управления включает в себя процессор, связанный с невременным запоминающим устройством, содержащим множество команд, которые при их исполнении заставляют процессор настраивать магнитное поле, генерируемое упомянутым множеством катушек (412, 414) квазипостоянного тока и первым и вторым наборами катушек (530, 531) радиального поля, для стабилизации плазмы FRC в радиальном направлении, перпендикулярном продольной оси камеры (100), с расположением плазмы FRC осесимметрично относительно продольной оси и в осевом направлении вдоль продольной оси с расположением плазмы FRC осесимметрично относительно средней плоскости.
15. Система по п.14, дополнительно выполненная с возможностью генерации FRC и поддержания FRC на или примерно на постоянном значении без спада, в то время как пучки нейтральных атомов инжектируются в FRC, или причем первое и второе радиальные магнитные поля являются антисимметричными относительно средней плоскости.

---