(57) 1. Цеолит с заданной пористостью типа FAU или LTA, демонстрирующий, по меньшей мере, следующие характеристики:
молярное соотношение Si/Al в интервале от 1 до 1,4, включая граничные значения;
среднечисловой диаметр кристаллов в интервале от 0,1 до 20 мкм, включая граничные значения;
мезопористость такая, что внешняя поверхность мезопор находится в интервале от 40 до 400 м²/г,
отличающийся тем, что указанный цеолит содержит до 2 мас.% включительно одной или нескольких других цеолитовых или аморфных фаз, загрязняющих его, и его объем микропор V_μp соответствует уравнению V_μp=V_μpR±15%, где V_μpR представляет собой объем микропор, определенный в таких же условиях для цеолита, имеющего такую же химическую природу и такую же кристаллическую структуру, являющегося полностью кристаллическим (согласно базе ICDD PDF-2, выпуск 2011 года), но внешняя поверхность мезопор которого меньше 40 м²/г.
2. Цеолит по п.1, в котором среднечисловой диаметр кристаллов составляет от 0,1 до 10 мкм, более предпочтительно от 0,5 до 10 мкм и наиболее предпочтительно от 0,5 до 5 мкм, включая граничные значения.
3. Цеолит по п.1, в котором мезопористость такая, что внешняя поверхность мезопор находится в интервале от 60 до 200 м²/г.
4. Способ получения цеолита по любому из пп.1-3, включающий следующие стадии:
a) получение основного геля смешиванием источника диоксида кремния с источником оксида алюминия при температуре в интервале от 0 до 60°C;
b) прибавление к основному гелю со стадии a) зародышеобразующего агента при температуре в интервале от 0 до 60°C;
c) прибавление к реакционной смеси по меньшей мере одного структурирующего агента;
d) осуществление кристаллизации повышением температуры;
e) фильтрование и промывка кристаллов полученного цеолита;
f) сушка и прокаливание.
5. Способ по п.4, в котором зародышеобразующий агент представляет собой зародышеобразующий гель.
6. Способ по п.4 или 5, в котором количество прибавленного зародышеобразующего агента по отношению к массе основного геля находится в интервале от 0,1 до 20%, предпочтительно в интервале от 0,5 до 15 мас.% и более предпочтительно в интервале от 1 до 10 мас.%, включая граничные значения.
7. Способ по п.4, в котором зародышеобразующий агент представляет собой кристалл.
8. Способ по п.4 или 7, в котором количество прибавленного зародышеобразующего агента находится в интервале от 0,1 до 10 мас.% по отношению к общей массе основного геля.
9. Способ по любому из пп.4-8, в котором источник диоксида кремния представляет собой силикат натрия, а источник оксида алюминия представляет собой тригидрат оксида алюминия.
10. Способ по любому из пп.4-9, в котором структурирующий агент представляет собой органосилан.
11. Способ по любому из пп.4-10, в котором структурирующий агент выбран из
хлорида [3-(триметоксисилил)пропил]октадецилдиметиламмония,
хлорида [3-(триметоксисилил)пропил]гексадецилдиметиламмония,
хлорида [3-(триметоксисилил)пропил]додецилдиметиламмония,
хлорида [3-(триметоксисилил)пропил]октиламмония,
N-[3-(триметоксисилил)пропил]анилина,
3-[2-(2-аминоэтиламино)этиламино]пропилтриметоксисилана,
N-[3-(триметоксисилил)пропил]-N'-(4-винилбензил)этилендиамина,
триэтокси-3-(2-имидазолин-1-ил)пропилсилана,
1-[3-(триметоксисилил)пропил]мочевины,
N-[3-(триметоксисилил)пропил]этилендиамина,
[3-(диэтиламино)пропил]триметоксисилана,
(3-глицидилоксипропил)триметоксисилана,
3-(триметоксисилил)пропилметакрилата,
[2-(циклогексенил)этил]триэтоксисилана,
додецилтриэтоксисилана, гексадецилтриметоксисилана,
(3-аминопропил)триметоксисилана,
(3-меркаптопропил)триметоксисилана,
(3-хлорпропил)триметоксисилана,
а также из смесей двух или нескольких этих соединений в любых пропорциях.
12. Способ по любому из пп.4-11, в котором количество одного или нескольких структурирующих агентов является таким, что исходное молярное соотношение одного или нескольких структурирующих агентов и Al₂O₃ находится в интервале от 0,005 до 0,20, предпочтительно от 0,01 до 0,15 и более предпочтительно от 0,02 до 0,08, включая граничные значения.

---