(11)	023480 (13) B1	Разделы: A B C D E F G H
(21)	201290431
(22)	2010.11.23
(51)	H05H 1/24 (2006.01)
(31)	09176940.6; 10153448.5
(32)	2009.11.24; 2010.02.12
(33)	EP
(43)	2013.04.30
(86)	PCT/EP2010/068049
(87)	WO 2011/064217 2011.06.03
(71)	(73) АГК ГЛАСС ЮРОП (BE)
(72)	Мишель Эрик, Тиксо Эрик, Леклерк Жозеф (BE)
(74)	Квашнин В.П., Сапельников Д.А. (RU)
(54)	СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОКРЫТИЯ ПОВЕРХНОСТИ СУБСТРАТА ПОСРЕДСТВОМ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКОГО БАРЬЕРНОГО РАЗРЯДА

(57) 1. Устройство для покрытия поверхности субстрата с помощью диэлектрического барьерного разряда, предоставляющего возможность образования нитевидной плазмы, содержащее

технологическую камеру для заполнения смесью, композиция которой является таковой, что при контакте с плазмой она разлагается на частицы, способные осаждаться в виде пленки большей частью или полностью на субстрат,

по меньшей мере два электрода, расположенных в технологической камере по обе стороны от субстрата, при этом один из электродов выполнен с возможностью подачи на него высокого напряжения переменного тока,

по меньшей мере один диэлектрический барьер, расположенный между этими по меньшей мере двумя электродами, и

ВВ/ВЧ трансформатор, вторичная обмотка которого соединена с упомянутыми электродами, при этом в контур вторичной обмотки трансформатора последовательно включен источник постоянного тока.

2. Устройство по п.1, отличающееся тем, что напряжение постоянного тока, генерируемое источником постоянного тока, включенным в контур вторичной обмотки ВВ/ВЧ трансформатора, находится в диапазоне между 1 и 15 кВ.

3. Устройство по п.1, отличающееся тем, что напряжение постоянного тока, генерируемое источником постоянного тока, включенным в контур вторичной обмотки ВВ/ВЧ трансформатора, находится в диапазоне между 15.1 и 100 кВ.

4. Устройство по п.3, отличающееся тем, что напряжение постоянного тока, генерируемое источником постоянного тока, включенным в контур вторичной обмотки ВВ/ВЧ трансформатора, находится в диапазоне между 20 и 100 кВ, а более предпочтительно между 20 и 80 кВ.

5. Устройство по любому из предшествующих пунктов, отличающееся тем, что источник постоянного тока представляет собой выпрямительный контур, на который подается часть напряжения от вторичной обмотки ВВ/ВЧ трансформатора.

6. Устройство по любому из предшествующих пунктов, отличающееся тем, что оно содержит переключатель, позволяющий положительным и отрицательным полюсам быть переключенными, так чтобы поляризовать электрод как положительно, так и отрицательно относительно субстрата-мишени.

7. Устройство по любому из предшествующих пунктов, отличающееся тем, что содержит средства регулирования напряжения поляризации таким образом, что указанное напряжение позволяет плазме выбирать только положительный или отрицательный полуцикл, при этом поляризация является такой, что плазма производит частицы, химически ответственные за нанесение пленки только тогда, когда электрод имеет противоположный знак этим вышеупомянутым частицам.

8. Устройство по любому из предшествующих пунктов, отличающееся тем, что полюса источника постоянного тока являются короткозамкнутыми с помощью конденсатора, полное сопротивление которого по меньшей мере в 1000 раз меньше, чем то, которое образовано разрядной ячейкой.

9. Устройство по любому из предшествующих пунктов, отличающееся тем, что содержит блокирующий конденсатор, расположенный непосредственно последовательно с трансформатором, так чтобы избежать влияния постоянного компонента тока на работу этого ВВ/ВЧ трансформатора.

10. Способ нанесения пленки на неорганический субстрат, предусматривающий использование устройства по п.1 и содержащий следующие операции:

введение или прохождение субстрата в технологической камере, в которой расположены по меньшей мере два электрода по обе стороны от субстрата, при этом по меньшей мере один диэлектрический барьер расположен между этими по меньшей мере двумя электродами;

включение источника питания, стабилизированного по амплитуде и по частоте, содержащего высоковольтный (ВВ) и высокочастотный (ВЧ) трансформатор, контур вторичной обмотки которого заканчивается подсоединенными к нему по меньшей мере двумя электродами;

генерация во вторичном контуре этого трансформатора стабилизированного электрического напряжения высокой частоты, величина которого вызывает образование нитевидной плазмы в технологической камере между по меньшей мере двумя электродами, при этом плазма состоит из электронов, нейтральных частиц, положительных и отрицательных ионов, частиц в стабильном и возбужденном состоянии;

включение источника питания постоянного тока, последовательно расположенного с ВВ/ВЧ трансформатором, для генерации постоянного напряжения, которое наложено на переменное напряжение, генерируемое трансформатором, так чтобы увеличить полярность субстрата и уменьшить полярность электродов, или наоборот, в зависимости от значения переменного напряжения;

введение в технологическую камеру смеси, состав которой таков, что при контакте с плазмой она разлагается на частицы, способные осаждаться в виде пленки большей частью или полностью на субстрат;

содержание субстрата в технологической камере в течение времени, достаточном для получения по меньшей мере на одной из его поверхностей слоя желаемой толщины.

11. Способ по п.10, отличающийся тем, что дополнительно предусматривает регулирование значения источника постоянного тока таким образом, что переменное напряжение не достигает значения образования плазмы в одном из полярных направлений.

12. Способ по одному из пп.10 и 11, отличающийся тем, что предусматривает инверсию полярности относительно субстрата.

13. Способ по п.11, отличающийся тем, что напряжение постоянного тока источника постоянного тока находится в диапазоне между 20 и 100 кВ, более предпочтительно между 20 и 80 кВ.