(11) | 020277 (13) B1 |
    Разделы: A B C D E F G H  |
(21) | 201001514 |
(22) | 2009.03.20 |
(51) | C03C 17/23 (2006.01)
C03C 17/36 (2006.01) |
(31) | 08102817.7 |
(32) | 2008.03.20 |
(33) | EP |
(43) | 2011.06.30 |
(86) | PCT/EP2009/053291 |
(87) | WO 2009/115596 2009.09.24 |
(71) | (73) АГК ГЛАСС ЮРОП (BE) |
(72) | Ди Стефано Гаетан (BE) |
(74) | Квашнин В.П., Сапельников Д.А. (RU) |
(54) | ОСТЕКЛЕНИЕ С ЗАЩИТНЫМИ СЛОЯМИ |
(57) 1. Остекление, которое является, по существу, прозрачным и закаливаемым, содержащее систему пленок, нанесенных в вакууме с применением магнетрона, и обладающее солнцезащитными и/или низкоэмиссионными свойствами, содержащее в качестве защитного поверхностного слоя слой на основе оксида титана и на основе по меньшей мере одного другого оксида металла высокой твердости, выбранного из группы, включающей ZrO2, SiO2, Cr2O3, причем этот слой наносится на слой, полученный из металлического титана или из нитрида титана, Zr или нитрида Zr, TiZr или нитрида TiZr.
2. Остекление по п.1, в котором оксид(ы) металла(ов), входящий(ие) в состав поверхностного слоя помимо оксида титана, составляет(ют) по меньшей мере 5 мас.%, предпочтительно по меньшей мере 10 мас.% от всего слоя.
3. Остекление по любому из предшествующих пунктов, в котором оксид титана составляет по меньшей мере 40 мас.% от поверхностного слоя.
4. Остекление по любому из предшествующих пунктов, в котором поверхностный слой помимо оксида титана содержит оксид циркония в количестве от 15 до 50 мас.%.
5. Остекление по любому из предшествующих пунктов, в котором поверхностный слой на основе оксида титана имеет толщину не менее 3 нм.
6. Остекление по одному из пп.1-5, в котором поверхностный слой на основе оксида титана имеет толщину не более 35 нм.
7. Остекление по любому из предшествующих пунктов, в котором поверхностный слой сам покрыт слоем углерода.
8. Остекление по п.7, в котором слой углерода имеет толщину не более 30 нм, предпочтительно не более 20 нм.
9. Остекление по любому из предшествующих пунктов, содержащее помимо поверхностного слоя по меньшей мере один функциональный слой на основе серебра и ряд диэлектрических слоев, расположенных между стеклянной подложкой и первым слоем серебра, при необходимости между всеми слоями серебра и над слоем серебра, который наиболее удален от подложки.
10. Остекление по п.9, содержащее один, два или три слоя серебра, каждый из которых имеет толщину от 7 до 20 нм.
11. Остекление по любому из предшествующих пунктов, где каждый слой на основе серебра покрыт защитным слоем, полученным из оксида или субоксида Ti, Zr, Nb, NiCr.
12. Остекление по п.9 или 10, где слой (слои) серебра наносится на слой на основе оксида цинка, необязательно легированного оловом, или алюминием, или галлием.
13. Способ получения остекления по любому из предшествующих пунктов, в котором поверхностный слой на основе оксида титана, содержащий один или более дополнительных оксидов, улучшающих его механическую прочность, наносят вакуумным напылением посредством магнетрона с катодов, содержащих соответствующую смесь оксидов или субоксидов.
14. Способ по п.13, в котором нанесение поверхностного слоя проводят в слегка окислительной атмосфере.
15. Остекление по одному из пп.1-6, в котором поверхностный слой "верхнее покрытие" образует часть многослойной системы группы, содержащей
стекло/TiO2/ZnO/Ag/NiCr/SiAlN/верхнее покрытие,
стекло/SiAlN/NiCr/Ag/NiCr/SiAlN/верхнее покрытие,
стекло/SiAlN/ZnO/Ag/NiCr/SiAlN/верхнее покрытие,
стекло/SiAlN/ZnO/Ag/NiCr/ZnO/SiAlN/ZnO/Ag/NiCr/верхнее покрытие,
стекло/TiO2/ZnO/Ag/NiCr/SnO2/ZnO/Ag/NiCr/SnO2/верхнее покрытие,
где следующие слои получают обычным образом для выполнения их обычных функций, а именно
NiCr в качестве временного слоя;
SiAlON в качестве индикаторного и защитного слоя;
TiO2 и SnO2 в качестве индикаторного слоя;
ZnO в качестве индикаторного слоя, но также для способствования росту слоя серебра при контакте с ним и относительно низкой толщине (менее 15 нм).
| 
