(11) | 020408 (13) B1 |
    Разделы: A B C D E F G H  |
(21) | 201270197 |
(22) | 2010.07.27 |
(51) | C25B 11/04 (2006.01)
C25C 7/02 (2006.01) |
(31) | 61/229,057 |
(32) | 2009.07.28 |
(33) | US |
(43) | 2012.07.30 |
(86) | PCT/EP2010/060838 |
(87) | WO 2011/012596 2011.02.03 |
(71) | (73) ИНДУСТРИЕ ДЕ НОРА С.П.А. (IT) |
(72) | Гулла Андреа Франческо, Абрахам Собха (US) |
(74) | Медведев В.Н. (RU) |
(54) | ЭЛЕКТРОД ДЛЯ ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКИХ ПРИМЕНЕНИЙ |
(57) 1. Электрод для осуществления электролитических процессов, включающий
подложку, изготовленную из титана или титанового сплава;
двойной барьерный слой, состоящий из первичного и вторичного барьерных слоев, причем упомянутый вторичный барьерный слой находится в непосредственном контакте с упомянутой подложкой и, по существу, состоит из нестехиометрического оксида титана, модифицированного включениями оксида тантала и оксида титана, упомянутый первичный барьерный слой находится в непосредственном контакте с упомянутым вторичным барьерным слоем и включает термически уплотненную смешанную оксидную фазу, содержащую оксид титана и оксид тантала, упомянутый первичный барьерный слой имеет плотность, превышающую 25 частиц на 10000 нм2 поверхности; и
каталитический слой, включающий металлы платиновой группы или их оксиды.
2. Электрод по п.1, где упомянутый первичный барьерный слой имеет плотность от 80 до 120 частиц на 10000 нм2 поверхности.
3. Электрод по любому из пп.1 или 2, где молярное соотношение Ti:Ta в упомянутой смешанной оксидной фазе составляет от 60:40 до 80:20.
4. Электрод по п.3, где упомянутая смешанная оксидная фаза в упомянутом первичном барьерном слое дополнительно содержит от 2 до 10 мол.% легирующего агента, выбранного из группы, состоящей из оксидов Се, Nb, W и Sr, причем упомянутый вторичный барьерный слой дополнительно содержит включения оксида Се, Nb, W или Sr.
5. Электрод по любому из предыдущих пунктов, где упомянутый первичный барьерный слой имеет толщину от 3 до 25 мкм, а упомянутый вторичный барьерный слой имеет толщину от 0,5 до 5 мкм.
6. Электрод по любому из предыдущих пунктов, при этом упомянутый каталитический слой включает оксид иридия и оксид тантала.
7. Применение электрода по любому из пп.1-6 в качестве анода в процессе электровыделения, электрорафинирования или гальванопокрытия.
8. Способ изготовления электрода по любому из пп.1-6, включающий следующие стадии:
покрытие подложки из титана или титанового сплава смешанным оксидным слоем в один или более покрывающих слоев нанесением на упомянутую подложку раствора предшественников, содержащего соединения титана и тантала, сушкой при температуре от 120 до 150°С и термическим разложением упомянутого раствора предшественников при температуре от 400 до 600°С в течение от 5 до 20 мин после каждого покрывающего слоя;
термическая обработка покрытой подложки, осуществляемая в диапазоне температур от 400 до 600°С в течение от 1 до 6 ч до образования упомянутого двойного барьерного слоя;
формирование упомянутого каталитического слоя на упомянутом двойном барьерном слое нанесением и термическим разложением раствора, содержащего соединения металлов платиновой группы, в один или более покрывающих слоев.
9. Способ по п.8, где упомянутый раствор предшественников представляет собой гидроспиртовой раствор, имеющий молярное содержание воды от 1 до 10% и содержащий алкоксидное соединение Ti, необязательно, изопропоксид Ti.
10. Способ по п.8 или 9, где за упомянутой стадией термического разложения упомянутого раствора предшественников, содержащего соединения титана и тантала, следует стадия закалки.
11. Способ по п.10, где скорость охлаждения на упомянутой стадии закалки составляет по меньшей мере 200°С/с.
| 
