|
| |
(11) | 017695 (13) B1 |
    Разделы: A B C D E F G H  |
(21) | 200870318 |
(22) | 2007.03.06 |
(51) | C03C 17/36 (2006.01)
B32B 17/06 (2006.01)
C23C 14/34 (2006.01) |
(31) | 0650771 |
(32) | 2006.03.06 |
(33) | FR |
(43) | 2009.02.27 |
(86) | PCT/FR2007/050882 |
(87) | WO 2007/101964 2007.09.13 |
(71) | (73) СЭН-ГОБЭН ГЛАСС ФРАНС (FR) |
(72) | Ретлер Паскаль, Петижан Эрик, Маттманн Эрик (FR), Жийе Пьер-Ален (BE) |
(74) | Медведев В.Н. (RU) |
(54) | ОСТЕКЛЕНИЕ |
(57) 1. Остекление, включающее в себя подложку (10), снабженную пакетом тонких слоев, содержащим металлический функциональный слой (40) со свойствами отражения инфракрасного и/или солнечного излучения на основе серебра или содержащего серебро металлического сплава, и два покрытия (20, 60), причем упомянутые покрытия состоят из множества диэлектрических слоев (24, 64), а функциональный слой (40) расположен между двумя покрытиями (20, 60), причем функциональный слой (40) нанесен на смачивающий слой (30), нанесенный, в свою очередь, непосредственно на нижележащее покрытие (20), отличающееся тем, что нижележащее покрытие (20) содержит по меньшей мере один диэлектрический слой (24) на основе нитрида, в частности нитрида кремния и/или нитрида алюминия, и по меньшей мере один некристаллический сглаживающий слой (26) из смешанного оксида, причем упомянутый сглаживающий слой (26) находится в контакте с упомянутым вышележащим смачивающим слоем (30) и представляет собой слой смешанного оксида на основе цинка и олова.
2. Остекление по предыдущему пункту, отличающееся тем, что сглаживающий слой (26) смешанного оксида на основе цинка и олова является допированным.
3. Остекление по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что сглаживающий слой (26) представляет собой слой оксида с нестехиометрическим количеством кислорода.
4. Остекление по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что сглаживающий слой (26) имеет геометрическую толщину между 0,1 и 30 нм, а предпочтительно между 0,2 и 10 нм.
5. Остекление по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что функциональный слой (40) расположен непосредственно по меньшей мере на одном нижележащем блокирующем покрытии (35) и/или непосредственно под по меньшей мере одним вышележащим блокирующим покрытием (45).
6. Остекление по предыдущему пункту, отличающееся тем, что по меньшей мере одно блокирующее покрытие (35, 45) выполнено на основе Ni или Ti или выполнено на основе сплава на основе Ni, в частности на основе сплава NiCr.
7. Остекление по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что смачивающий слой (30), лежащий под функциональным слоем (40), выполнен на основе оксида цинка.
8. Остекление по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что подложка (10) представляет собой прозрачную стеклянную подложку.
9. Остекление по любому из предыдущих пунктов, отличающееся тем, что оно содержит по меньшей мере одну дополнительную подложку, необязательно объединенную с упомянутой подложкой.
10. Остекление по предыдущему пункту, отличающееся тем, что оно смонтировано как монолитное или как многослойное остекление типа однокамерного стеклопакета или ламинированного остекления, при этом, по меньшей мере, подложка-носитель пакета слоев изогнута или закалена.
11. Способ изготовления остекления по любому из пп.1-8, отличающийся тем, что наносят пакет тонких слоев на подложку по вакуумной технологии типа катодного распыления, необязательно магнетронного распыления, и тем, что затем осуществляют термическую обработку типа изгибания, закалки или отжига упомянутой подложки без ухудшения ее оптического и/или механического качества.
|
