(57) Изобретение относится к области теплотехники и может быть использовано в различных отраслях, требующих охлаждения различных аппаратов и устройств при минимальных расходах охладителя, например воды. Одним из наиболее важных применений предполагаемого изобретения может быть, например, повышение эффективности процесса генерации водяной плазмы путем повышения термического КПД водяных плазмотронов до уровня, близкого к 100%, а также улучшение их эксплуатационных характеристик за счет повышения точности и упрощения процессов регулирования их рабочих режимов. Поставленная задача применительно, например, к плазмотрону решается путем использования испарительного его охлаждения вместо традиционного конвективного, работающего только за счет теплоемкости воды, для чего воду, предназначенную для охлаждения плазмотрона и генерации плазмы, нагревают во внешнем водонагревателе под давлением ниже критического до температуры ниже точки кипения при этом давлении, подают нагретую воду или другую жидкость в систему охлаждения, например охлаждающий тракт одного из электродов, где дросселируют эту воду до давления ниже давления насыщенного пара при температуре нагрева воды и продолжают дросселирование полученного влажного пара на всем протяжении охлаждающего тракта вместе с нагревом пара, регулируя его расход регулированием расхода воды на входе в тракт в соответствии с потребностями охлаждения электрода.